The invention includes methods of making lithography photomask blanks. The
invention also includes lithography photomask blanks and preforms for
producing lithography photomask. The method of making a lithography
photomask blank includes providing a soot deposition surface, producing
SiO.sub.2 soot particles and projecting the SiO.sub.2 soot particles
toward the soot deposition surface. The method includes successively
depositing layers of the SiO.sub.2 soot particle on the deposition surface
to form a coherent SiO.sub.2 porous glass preform body comprised of
successive layers of the SiO.sub.2 soot particles and dehydrating the
coherent SiO.sub.2 glass preform body to remove OH from the preform body.
The SiO.sub.2 is exposed to and reacted with a fluorine containing
compound and consolidated into a nonporous silicon oxyfluoride glass body
with parallel layers of striae. The method further includes forming the
consolidated silicon oxyfluoride glass body into a photomask blank having
a planar surface with the orientation of the striae layer parallel to the
photomask blank planar surface.
A invenção inclui métodos de espaços em branco fazendo do photomask do lithography. A invenção inclui também espaços em branco e pré-formas do photomask do lithography para produzir o photomask do lithography. O método de fazer um espaço em branco do photomask do lithography inclui fornecer uma superfície do deposition da fuligem, produzindo partículas de fuligem SiO.sub.2 e projetando a fuligem SiO.sub.2 as partículas para o deposition da fuligem aplainam. O método inclui camadas sucessivamente depositando da partícula de fuligem SiO.sub.2 na superfície do deposition para dar forma a um corpo coherent da pré-forma do vidro SiO.sub.2 poroso compreendido de camadas sucessivas das partículas de fuligem SiO.sub.2 e de desidratar o corpo de vidro coherent da pré-forma SiO.sub.2 remover o OH do corpo da pré-forma. O SiO.sub.2 é exposto a e reagido com conter do fluorine composto e consolidado em um corpo de vidro do oxyfluoride nonporous do silicone com camadas paralelas de striae. O método mais adicional inclui dar forma ao corpo de vidro consolidado do oxyfluoride do silicone em um espaço em branco do photomask que tem uma superfície planar com a orientação da camada dos striae paralela à superfície planar do espaço em branco do photomask.
