A method of manufacturing a semiconductor device, including depositing a
gate oxide film over a substrate and conditioning the deposited gate oxide
film using laser thermal annealing in a single process chamber, and
depositing a gate electrode film over the conditioned gate oxide film.
Μια μέθοδος μια συσκευή ημιαγωγών, συμπεριλαμβανομένης της κατάθεσης μιας ταινίας οξειδίων πυλών πέρα από ένα υπόστρωμα και της βελτίωσης της κατατεθειμένης ταινίας οξειδίων πυλών που χρησιμοποιεί τη θερμική ανόπτηση λέιζερ σε μια ενιαία αίθουσα διαδικασίας, και την κατάθεση μιας ταινίας ηλεκτροδίων πυλών πέρα από τη ρυθμισμένη ταινία οξειδίων πυλών.
