The apparatus allows monitoring layer depositions in a process chamber. The
apparatus has a light source, a sensor element, and at least one light
detector. The sensor element is suitably configured in order to influence
the intensity of the light beam measured by the detector by the thickness
of the layer growing on the sensor element. The novel monitoring method
for measuring the transmitted light intensity utilizes the apparatus. The
sensor element has a continuous opening through which the intensity of the
light is observed as a function of the opening grown over by the thickness
of the growing layer.
Η συσκευή επιτρέπει τις αποθέσεις στρώματος σε μια αίθουσα διαδικασίας. Η συσκευή έχει μια πηγή φωτός, ένα στοιχείο αισθητήρων, και τουλάχιστον έναν ελαφρύ ανιχνευτή. Το στοιχείο αισθητήρων διαμορφώνεται κατάλληλα προκειμένου να επηρεαστεί η ένταση της ελαφριάς ακτίνας που μετριέται από τον ανιχνευτή από το πάχος του στρώματος που αυξάνεται στο στοιχείο αισθητήρων. Η νέα μέθοδος ελέγχου για τη διαβιβασθείσα ελαφριά ένταση χρησιμοποιεί τις συσκευές. Το στοιχείο αισθητήρων έχει ένα συνεχές άνοιγμα μέσω του οποίου η ένταση του φωτός παρατηρείται ως λειτουργία του ανοίγματος που αυξάνεται από το πάχος του αυξανόμενου στρώματος.
