A projection exposure apparatus includes an illumination optical system for
illuminating a pattern of a reticle with laser light from a continuous
emission excimer laser, a projection optical system projecting the
illuminated pattern onto a substrate, an adjusting device for adjusting an
optical characteristic of the projection optical system in accordance with
a change in wavelength of the laser, and a wavelength stabilizing device
for stabilizing the wavelength of the laser light when the adjustment of
the optical characteristic of the projection optical system by the
adjusting device is insufficient.
Ein Projektion Belichtung Apparat schließt ein Ablichtung optisches System für das Belichten eines Musters eines Reticle mit Laserlicht von einem ununterbrochenen Emission excimer Laser, ein Projektion optisches System, welches das belichtete Muster auf ein Substrat projizieren, einen Justierkörper für das Einstellen einer optischen Eigenschaft des Projektion optischen Systems in Übereinstimmung mit einer Änderung in der Wellenlänge des Lasers und eine stabilisierende Vorrichtung der Wellenlänge auf das Stabilisieren der Wellenlänge des Laserlichts ein, wenn die Justage der optischen Eigenschaft des Projektion optischen Systems durch den Justierkörper unzulänglich ist.
