There is disclosed a radiation sensitive composition containing a silane
compound represented by the following formula (1):
(R.sup.1).sub.p Si(X).sub.4-p (1)
wherein R.sup.1 is an unhydrolyzable organic group having 1 to 12 carbon
atoms, X is a hydrolyzable group, and p is an integer of 0 to 3,
a hydrolyzate thereof and a condensate of the hydrolyzate;
and a compound which generates an acid or base upon exposure to radiation.
The composition is used to form an insulating film for an organic EL
display device, and an interlayer insulating film for a liquid crystal
display device.
È rilevato una composizione sensibile in radiazione che contiene un residuo del silano rappresentato dalla seguente formula (1): (R.sup.1).sub.p Si(X).sub.4-p (1) in cui R.sup.1 è un gruppo organico unhydrolyzable che ha 1 - 12 atomi di carbonio, X è un gruppo hydrolyzable e la p è un numero intero di 0 - di 3, di un hydrolyzate di ciò e di un condensato del hydrolyzate; e un residuo che genera un acido o una base su esposizione a radiazione. La composizione è usata per formare una pellicola isolante per un visualizzatore organico di EL e una pellicola isolante dello strato intermedio per un dispositivo del display a cristalli liquidi.
