The present invention presents an improved optical window deposition shield
an improved optical window deposition shield for optical access to a
process space in a plasma processing system through a deposition shield,
wherein the design and fabrication of the optical window deposition shield
advantageously provides an optically clean access to the processing plasma
in the process space while sustaining substantially minimal erosion of the
optical window deposition shield.
Η παρούσα εφεύρεση παρουσιάζει μια βελτιωμένη οπτική ασπίδα απόθεσης παραθύρων μια βελτιωμένη οπτική ασπίδα απόθεσης παραθύρων για την οπτική πρόσβαση σε ένα διάστημα διαδικασίας σε ένα σύστημα επεξεργασίας πλάσματος μέσω μιας ασπίδας απόθεσης, όπου το σχέδιο και η επεξεργασία της οπτικής ασπίδας απόθεσης παραθύρων παρέχουν ευνοϊκά μια οπτικά καθαρή πρόσβαση στο πλάσμα επεξεργασίας στο διάστημα διαδικασίας στηρίζοντας την ουσιαστικά ελάχιστη διάβρωση της οπτικής ασπίδας απόθεσης παραθύρων.
