An apparatus for depositing an optical thin film at a high accuracy has a
vacuum chamber in which a thin film is formed on a substrate by vapor
deposition of a material at a target using ion beams from an ion gun, an
optical monitor for optically measuring the thickness of the thin film and
outputting transmittance data DT, a crystal monitor for measuring a
frequency which changes as the deposition proceeds and for outputting
frequency data DF, and a determination circuit 12. The determination
circuit select between the optical monitor and the crystal monitor to
control the thickness of the thin film to be formed on the substrate.
Un apparecchio per depositare una pellicola sottile ottica ad un'alta esattezza ha un alloggiamento in cui una pellicola sottile รจ formata su un substrato tramite il deposito del vapore di un materiale ad un obiettivo usando i fasci ionici da una pistola dello ione, un video ottico per otticamente la misurazione dello spessore della pellicola sottile e la produzione del distacco di dati di trasmissione, un video di cristallo di vuoto per la misurazione della frequenza che cambia mentre i ricavati di deposito e per la produzione dei dati DF di frequenza e un circuito 12 di determinazione. Il circuito di determinazione prescelto fra il video ottico ed il video di cristallo per controllare lo spessore della pellicola sottile da formare sul substrato.
