A deposition system in accordance with one embodiment of the present
invention includes a process chamber, a stationary pedestal for supporting
a substrate in the process chamber, and a moveable shield forming at least
a portion of an enclosure defining the process chamber. Motion of the
shield with respect to the stationary pedestal controls a variable gas
conductance path for gases flowing through the process chamber thereby
modulating the pressure of the process chamber with respect to an external
volume. The moveable shield in accordance with an embodiment of the
present invention may include several gas channel openings for introducing
various process gases into the process chamber. In some embodiments, the
moveable shield may alternatively or additionally include an interior
cooling or heating channel for temperature control.
Un sistema de la deposición de acuerdo con una encarnación de la actual invención incluye un compartimiento de proceso, un pedestal inmóvil para apoyar un substrato en el compartimiento de proceso, y un protector movible que forma por lo menos una porción de un recinto que define el compartimiento de proceso. El movimiento del protector con respecto al pedestal inmóvil controla una trayectoria variable de la conductancia del gas para los gases que atraviesan el compartimiento de proceso de tal modo que modula la presión del compartimiento de proceso con respecto a un volumen externo. El protector movible de acuerdo con una encarnación de la actual invención puede incluir varios las aberturas del canal del gas para introducir los varios gases de proceso en el compartimiento de proceso. En algunas encarnaciones, el protector movible puede incluir alternativomente o además un canal que se refresca o de calefacción interior para el control de la temperatura.
