A radiation-sensitive resin composition comprising: (A) an alkali insoluble
or scarcely alkali-soluble resin having an acid-dissociable protecting
group of the following formula [I],
##STR1##
wherein R.sup.1 groups are monovalent alicyclic hydrocarbon groups or alkyl
groups, provided that at least one of the R.sup.1 groups is the monovalent
alicyclic hydrocarbon group, or any two of the R.sup.1 groups and the
carbon atom form a divalent alicyclic hydrocarbon group, (B) a photoacid
generator, and (C) propylene glycol monomethyl ether acetate,
.gamma.-butyrolactone, and cyclohexanone as solvents. The resin
composition is useful as a chemically-amplified resist for
microfabrication utilizing deep ultraviolet rays and exhibits excellent
film thickness uniformity and storage stability.
Μια radiation-sensitive σύνθεση ρητίνης που περιλαμβάνει: (A) μια αλκαλική αδιάλυτη ή μόλις και μετά βίας διαλυτοη σε αλκαλικό διάλυμα ρητίνη που έχει μια όξινος-ακοινώνητη προστατεύοντας ομάδα του ακόλουθου τύπου [ ι ], ## STR1 ## όπου οι ομάδες R.sup.1 είναι μονοσθενείς αλεικυκλικές ομάδες υδρογονανθράκων ή αλκυλικές ομάδες, υπό τον όρο ότι τουλάχιστον μια από τις ομάδες R.sup.1 είναι η μονοσθενής αλεικυκλική ομάδα υδρογονανθράκων, ή οποιος δήποτε δύο των ομάδων R.sup.1 και της μορφής ατόμων άνθρακα μια divalent αλεικυκλική ομάδα υδρογονανθράκων, (B) μια γεννήτρια photoacid, και (C) monomethyl οξικό άλας αιθέρα γλυκόλης προπυλενίου, γαμμα.-βουτυρολακτόνη, και κυκλοεξανόνη ως διαλύτες. Η σύνθεση ρητίνης είναι χρήσιμη όπως χημικά-ενισχυμένη αντιστέκομαι για το microfabrication που χρησιμοποιεί τις βαθιές υπεριώδεις ακτίνες και εκθέτει την άριστες ομοιομορφία πάχους ταινιών και τη σταθερότητα αποθήκευσης.
