An apparatus for surface treating a semiconductor wafer includes a surface
treatment chamber and a source of radiation. The semiconductor wafer
disposed inside the chamber is illuminated with radiation sufficient to
create a plurality of electron-hole pairs near the surface of the wafer
and to desorb ions and molecules adsorbed on the surface of the wafer.
Μια συσκευή για την επιφάνεια που μεταχειρίζεται μια γκοφρέτα ημιαγωγών περιλαμβάνει μια αίθουσα επεξεργασίας επιφάνειας και μια πηγή ακτινοβολίας. Η γκοφρέτα ημιαγωγών που διατίθεται μέσα στην αίθουσα είναι φωτισμένη με την ακτινοβολία επαρκή για να δημιουργήσει μια πολλαπλότητα των ζευγαριών ηλεκτρόνιο-τρυπών κοντά στην επιφάνεια της γκοφρέτας και για να εκροφήσει τα ιόντα και τα μόρια που προσροφώνται στην επιφάνεια της γκοφρέτας.
