A composition for an anti-reflective coating or a radiation absorbing
coating which can form an anti-reflective coating or a radiation absorbing
coating having high absorption to exposed radiation in the range of 100 to
450 nm, no diffusion of photo-generated acid to anti-reflective coating
and so on, no intermixing of resist and anti-reflective coating layer,
good shelf-life stability, and good step coverage and novel compounds and
polymers being preferably used in the composition are disclosed. The
composition contains an acrylic or methacrylic compound or polymer with an
isocyanate or thioisocyanate group bonded through an alkylene group to a
side chain thereof or with an amino or hydroxyl group-containing organic
chromophore which absorbs radiation in the range of 100 to 450 nm
wavelength and is bonded, for example, through an alkylene group to the
isocyanate or thioisocyanate group. Resist patters with high resolution
are formed on a substrate. A composition for an anti-reflective coating or
a radiation absorbing coating are applied on the substrate and baked to
form an anti-reflective coating or a radiation absorbing coating layer.
Then, a chemically amplified resist is coated thereon and after
patternwize exposure, developed. During baking of the anti-reflective
coating or radiation absorbing coating, hardening or curing of the coating
takes place by the presence of the isocyanate or thioisocyanate group. On
the other hand, the exposed radiation having wavelength in the range of
100 to 450 nm is absorbed by organic chromophore.
Μια σύνθεση για ένα αντι-αντανακλαστικό επίστρωμα ή ένα απορροφώντας επίστρωμα ακτινοβολίας που μπορούν να διαμορφώσουν ένα αντι-αντανακλαστικό επίστρωμα ή ένα απορροφώντας επίστρωμα ακτινοβολίας που έχει την υψηλή απορρόφηση στην εκτεθειμένη ακτινοβολία στη σειρά 100 έως 450 NM, καμία διάχυση του φωτογραφία-παραγμένου οξέος στο αντι-αντανακλαστικό επίστρωμα και τα λοιπά, κανένα ανακάτεμα αντιστέκεται και αντι-αντανακλαστικό στρώμα επιστρώματος, καλή σταθερότητα διάρκειας διατήρησης, και οι καλές ενώσεις κάλυψης βημάτων νέων και και τα πολυμερή σώματα κατά προτίμηση που χρησιμοποιούνται στη σύνθεση αποκαλύπτονται. Η σύνθεση περιέχει μια ακρυλικό ή μεθακρυλικό ένωση ή ένα πολυμερές σώμα με ένα ισοκυανικό άλας ή thioisocyanate μια ομάδα που συνδέεται μέσω μιας alkylene ομάδας με μια πλευρική αλυσίδα επ' αυτού ή με αμινο ή ομάδα-περιέχοντας οργανικό chromophore υδροξυλίου που απορροφά την ακτινοβολία στη σειρά του μήκους κύματος 100 έως 450 NM και συνδέεται, παραδείγματος χάριν, μέσω μιας alkylene ομάδας στο ισοκυανικό άλας ή thioisocyanate της ομάδας. Αντισταθείτε στις ομιλίες με το υψηλό ψήφισμα διαμορφώνεται σε ένα υπόστρωμα. Μια σύνθεση για ένα αντι-αντανακλαστικό επίστρωμα ή ένα απορροφώντας επίστρωμα ακτινοβολίας εφαρμόζεται στο υπόστρωμα και ψήνεται για να διαμορφώσει ένα αντι-αντανακλαστικό επίστρωμα ή ένα απορροφώντας στρώμα επιστρώματος ακτινοβολίας. Κατόπιν, χημικά ενισχυμένη αντιστέκεται είναι ντυμένη επ'αυτού και μετά από η έκθεση, που αναπτύσσεται. Κατά τη διάρκεια του ψησίματος του αντι-αντανακλαστικού επιστρώματος ή του απορροφώντας επιστρώματος ακτινοβολίας, η σκλήρυνση ή η θεραπεία του επιστρώματος πραγματοποιείται από την παρουσία του ισοκυανικού άλατος ή thioisocyanate της ομάδας. Αφ' ετέρου, η εκτεθειμένη ακτινοβολία που έχει το μήκος κύματος στη σειρά 100 έως 450 NM απορροφάται από οργανικό chromophore.
