A photoresist polymeric compound includes a monomer unit represented by
following Formula (I):
##STR1##
The polymeric compound may further include at least one of monomer units
represented by Formulae (IIa) to (IIg) as described in the specification.
The photoresist polymeric compound can exhibit high adhesion to substrates
and can highly precisely form fine patterns.
Μια photoresist πολυμερής ένωση περιλαμβάνει μια μονάδα μονομερών που αντιπροσωπεύεται με την ακολουθία του τύπου (I): ## STR1 ## Η πολυμερής ένωση μπορεί περαιτέρω να περιλάβει τουλάχιστον μια από τις μονάδες μονομερών που αντιπροσωπεύονται από τους τύπους (IIa) (IIg) όπως περιγράφεται στην προδιαγραφή. Η photoresist πολυμερής ένωση μπορεί να εκθέσει την υψηλή προσκόλληση στα υποστρώματα και μπορεί ιδιαίτερα ακριβώς να διαμορφώσει τα λεπτά σχέδια.
