Disclosed is a negative-type photosensitive resin composition comprising
component (A) that is a product of the Michael addition reaction between
an amino group-containing compound (a-1) represented by the general
formula (I):
##STR1##
(wherein n is an integral number of 1-4), and a polyethyleneglycol
di(meth)acrylate (a-2) represented by the general formula (II):
##STR2##
(wherein R.sub.1 is a hydrogen or a methyl, and m is an integral number of
4-14). The composition of the invention is broadly be applicable in the
technical fields of photo masks for etching use in the fabrication of CRT
shadow masks, and lead frames for the mounting of IC chips; phosphor
patterning of CRT; and further those of photosensitive resin plates, dry
films, aqueous photosensitive paints, and aqueous photosensitive
adhesives, etc. The composition of the invention has water resistance in
spite of its capability of being developed with water and produce effects
of enduring acidic wet-etching and repetitive steps of development.
Révélé est un négatif-type composition photosensible en résine comportant le composant (a) qui est un produit de la réaction d'addition de Michael entre un composé groupe-contenant aminé (a-1) représenté par la formule générale (i) : ## du ## STR1 (où n est un nombre intégral de 1-4), et un di(meth)acrylate de polyéthylène glycol (a-2) représenté par la formule générale (ii) : ## du ## STR2 (où R.sub.1 est un hydrogène ou un méthyle, et m est un nombre intégral de 4-14). La composition de l'invention est soit largement applicable dans les domaines techniques des masques de photo pour l'usage gravure à l'eau-forte dans la fabrication des masques d'ombre de tube, et des armatures de fil pour le support des morceaux d'IC ; modeler de phosphore du tube ; et promouvez ceux des plats photosensibles de résine, les films secs, les peintures photosensibles aqueuses, et les adhésifs photosensibles aqueux, etc... La composition de l'invention a la résistance à l'eau malgré ses possibilités d'être développé avec des effets de l'eau et de produit de supporter la humide-gravure à l'eau-forte acide et les étapes réitérées du développement.
