In the measurement with the focusing method, an X-ray beam from an X-ray
source passes through an opening of a path-selection slit device and is
narrowed by a divergence slit with a predetermined divergence angle and is
thereafter incident upon a sample. The changing operation from the
focusing method into the parallel beam method is carried out by turning,
by 180 degrees, the path-selection slit device around its axis of rotation
and by moving the divergence slit in a direction perpendicular to an X-ray
traveling direction. Then, the X-ray beam from the X-ray source is
reflected by a multilayer mirror to become a parallel beam and passes
through the opening of the path-selection slit device and is thereafter
incident upon the sample. Thus, the turning of the path-selection slit
device enables the change between the focusing method and the parallel
beam method, requiring no re-setting operation for the optical system.
En la medida con el método que se enfocaba, una viga de radiografía de pasos de una fuente de la radiografía con una abertura de una trayectoria-seleccio'n rajó el dispositivo y es enangostada por una raja de la divergencia con un ángulo predeterminado de la divergencia y es después de eso incidente sobre una muestra. La operación que cambia del método que se enfoca en el método paralelo de la viga es realizada a dando vuelta, por 180 grados, al dispositivo de la raja de la trayectoria-seleccio'n alrededor de su eje de la rotación y moviendo la divergencia rajada en un perpendicular de la dirección a una dirección que viaja de la radiografía. Entonces, la viga de radiografía de la fuente de la radiografía es reflejada por un espejo de múltiples capas para convertirse en una viga paralela y pasa con la abertura del dispositivo de la raja de la trayectoria-seleccio'n y es después de eso incidente sobre la muestra. Así, el dar vuelta del dispositivo de la raja de la trayectoria-seleccio'n permite el cambio entre el método que se enfoca y el método paralelo de la viga, no requiriendo ninguna operación de reajuste para el sistema óptico.
