In accordance with the invention, an electron beam source for exposing
selected portions of a surface to electrons comprises a plurality of
nanoscale electron emitters and, associated with each electron emitter, a
directional control element to direct the emitter toward a selected
portion of the surface. In a preferred embodiment, the emitters are
nanotubes or nanowires mounted on electrostatically controlled MEMS
directional control elements. An alternative embodiment uses electrode
directional control elements.
Selon l'invention, une source de faisceau d'électrons pour exposer les parties choisies d'une surface aux électrons comporte une pluralité des émetteurs d'électron de nanoscale et, liée à chaque émetteur d'électron, d'un élément directionnel de commande pour diriger l'émetteur vers une partie choisie de la surface. Dans un mode de réalisation préféré, les émetteurs sont des nanotubes ou des nanowires montés sur les éléments directionnels électrostatiquement commandés de commande de MEMS. Une incorporation alternative emploie les éléments directionnels de commande d'électrode.
