A processing system is disclosed which includes first and second chambers,
each for accommodating a processing apparatus therein, each chamber being
able to be kept gas tight, a coupling member for coupling the processing
apparatuses accommodated in the first and second chambers with each other,
and an elastic gas tightness holding member for gas tightly sealing
portions between the coupling member and the first and second chambers.
On révèle un système de traitement qui inclut d'abord et les deuxièmes chambres, chacune pour adapter à un appareil de traitement là-dedans, chaque chambre pouvant en mesure être gaz gardé serré, un membre d'accouplement pour coupler les appareils de traitement adaptés dans les premières et deuxièmes chambres avec l'un l'autre, et une étanchéité élastique de gaz tenant le membre pour le gaz scellant étroitement des parties entre le membre d'accouplement et les premières et deuxièmes chambres.
