A spacer on which static electricity is restricted and an electron beam
apparatus in which the spacer is provided. In the electron beam apparatus
comprising an electron source provided with electron emission devices, a
face plate provided with anodes and spacers installed between the electron
source and the face plate, unevenness is formed on the surface of the
spacer substrate, and further a thin film which has a smaller thickness
than a roughness. This makes possible the restriction of incident angle
multiplication coefficient for the primary electrons whose energy is lower
than the second cross-point energy of a resistive film. The electron beam
apparatus provided with the above spacer is excellent in display
definition and long-term reliability since the displacement of light
emission points and the creeping discharge accompanying the static
electricity can be restricted due to the spacer.
Ένα πλήκτρο διαστήματος στο οποίο η στατική ηλεκτρική ενέργεια είναι περιορισμένη και μια συσκευή δεσμών ηλεκτρονίων στην οποία το πλήκτρο διαστήματος παρέχεται. Στις συσκευές δεσμών ηλεκτρονίων περιλαμβάνοντας μια πηγή ηλεκτρονίων που παρέχονται τις συσκευές εκπομπής ηλεκτρονίων, ένα πιάτο προσώπου που παρέχονται τις ανόδους και τα πλήκτρα διαστήματος που εγκαθίστανται μεταξύ της πηγής ηλεκτρονίων και το πιάτο προσώπου, unevenness διαμορφώνεται στην επιφάνεια του υποστρώματος πλήκτρων διαστήματος, και περαιτέρω μια λεπτή ταινία που έχει ένα μικρότερο πάχος από μια τραχύτητα. Αυτό καθιστά πιθανό τον περιορισμό του συναφούς συντελεστή πολλαπλασιασμού γωνίας για τα αρχικά ηλεκτρόνια η των οποίων ενέργεια είναι χαμηλότερη από τη δεύτερη ενέργεια διασταυρώσεων μιας ανθεκτικής ταινίας. Η συσκευή δεσμών ηλεκτρονίων που παρέχεται το ανωτέρω πλήκτρο διαστήματος είναι άριστη στον καθορισμό επίδειξης και τη μακροπρόθεσμη αξιοπιστία δεδομένου ότι η μετατόπιση των ελαφριών σημείων εκπομπής και της σερνμένος απαλλαγής που συνοδεύει τη στατική ηλεκτρική ενέργεια μπορεί να περιοριστεί λόγω στο πλήκτρο διαστήματος.
