A method for fabricating an integrated optical isolator includes depositing
a wire grid material on a magneto-optical substrate and depositing a
resist film on the wire grid material. The method further includes
bringing a mold with a wire grid pattern on contact with the resist film
and compressing the mold and resist film together so as to emboss the wire
grid pattern in the resist film. The method further includes transferring
the wire grid pattern in the resist film to the wire grid material on the
magneto-optical substrate by etching.
Eine Methode für das Fabrizieren eines integrierten optischen Isolators schließt das Niederlegen eines Leitung Rasterfeldmaterials auf einem Magnetoptiksubstrat und das Niederlegen eines widerstehenfilmes auf dem Leitung Rasterfeldmaterial mit ein. Die weitere Methode schließt das Holen einer Form mit einem Leitung Gitterfeld auf Kontakt mit dem widerstehenfilm und das Zusammendrücken der Form mit ein und widersteht Film zusammen, um das Leitung Gitterfeld im widerstehenfilm zu prägen. Die weitere Methode schließt das Bringen des Leitung Gitterfeldes im widerstehenfilm auf das Leitung Rasterfeldmaterial auf dem Magnetoptiksubstrat durch Radierung ein.
