Compounds having isocyanate groups with or without blocking, allophanate
groups and free-radically polymerizable C--C double bonds, the C--C double
bonds being in activated form by virtue of a carbonyl group attached
directly to them or by virtue of an oxygen atom in ether function
(activated double bonds), derived from polyisocyanates and alcohols A
which in addition to the alcohol group also carry an activated double bond
(compounds I). The invention additionally relates to radiation-curable
formulations and coating compositions comprising the compounds I, to
methods for coating using these substances, and to coated articles
produced using these methods. Furthermore, the invention relates to the
use of the compounds I in radiation-curable compositions such as in
casting compositions, dental compounds, composite materials, sealing
compounds, adhesives, troweling compounds, printing inks, in
photostructurable compositions such as solder resists, photoresists,
photopolymeric printing plates, and stereolithography resins.
Οι ενώσεις που έχουν τις ομάδες ισοκυανικού άλατος με ή χωρίς φράξιμο, allophanate ομάδες και ελεύθερος-ριζικά πολυμερίσιμοι διπλοί δεσμοί των CC, οι διπλοί δεσμοί των CC που είναι με ενεργοποιημένη μορφή δυνάμει μιας ομάδας καρβονυλίων που συνδέθηκε άμεσα με τους ή δυνάμει ενός ατόμου οξυγόνου στη λειτουργία αιθέρα (ενεργοποιημένοι διπλοί δεσμοί), προήλθαν από τα polyisocyanates και τα οινοπνεύματα Α που εκτός από την ομάδα οινοπνεύματος φέρνουν επίσης έναν ενεργοποιημένο διπλό δεσμό (ενώσεις I). Η εφεύρεση αφορά πρόσθετα τις radiation-curable διατυπώσεις και τις συνθέσεις επιστρώματος περιλαμβάνοντας τις ενώσεις Ι, τις μεθόδους για το επίστρωμα χρησιμοποιώντας αυτές τις ουσίες, και τα ντυμένα άρθρα παραχθέντα χρησιμοποιώντας αυτές τις μεθόδους. Επιπλέον, η εφεύρεση αφορά τη χρήση των ενώσεων Ι στις radiation-curable συνθέσεις όπως στις συνθέσεις ρίψης, οδοντικές ενώσεις, σύνθετα υλικά, σφραγίζοντας ενώσεις, κόλλες, troweling ενώσεις, μελάνια εκτύπωσης, στις photostructurable συνθέσεις όπως η ύλη συγκολλήσεως αντιστέκεται, photoresists, photopolymeric πιάτα εκτύπωσης, και ρητίνες στερεολιθογραφίας.
