Integrated circuit identification

   
   

A method for marking a semiconductor wafer 302 includes the steps of: providing a reticle 300 including liquid crystal pixels; positioning the semiconductor wafer in proximity to the reticle; directing radiation through a first plurality of the pixels onto a first location on the wafer; changing the relative positions of the semiconductor wafer and the reticle; and directing radiation through a second plurality of the pixels onto a second location on the wafer. The first plurality of pixels can be used to form a first mark and the second plurality of pixels can be used to form a second mark, wherein the second mark is different from the first mark. The marks can be made of a pattern of dots in order to save space. The pixels can be selected to form certain marks by using a computer 304 to turn on or off a transistor that may be associated with each pixel. Also described is a system for marking a semiconductor wafer. The system includes a wafer mount 301; a radiation source 306 in proximity to the wafer mount; a reticle 300 which includes liquid crystal pixels and that is positionable between the radiation source and the wafer mount; and a mechanism 303 for changing the relative positions of the reticle and the wafer mount. The radiation source can be non-coherent far-ultraviolet, near-ultraviolet, or visible sources, or a laser.

Метод для маркировать вафлю полупроводника 302 вклюает шаги: обеспечивать перекрещение 300 включая жидкостные crystal пикселы; располагать вафлю полупроводника в близости к перекрещению; сразу радиация через первую множественность пикселов на первое положение на вафле; изменять относительные положения вафли полупроводника и перекрещения; и сразу радиация через вторую множественность пикселов на второе положение на вафле. Первую множественность пикселов можно использовать для того чтобы сформировать первую метку и вторую множественность пикселов можно использовать для того чтобы сформировать вторую метку, при котором вторая метка отличает первая метка. Метки можно сделать картины многоточий для того чтобы сохранить космос. Пикселы можно выбрать для того чтобы сформировать некоторые метки путем использование компьютера 304 повернуть дальше или с транзистора может быть связан с каждым пикселом. Также описана система для маркировать вафлю полупроводника. Система вклюает держатель 301 вафли; источник 306 радиации в близости к держателю вафли; перекрещение 300 вклюает жидкостные crystal пикселы и то positionable между источником радиации и держателем вафли; и механизм 303 для изменять относительные положения перекрещения и держателя вафли. Источником радиации может быть некогерентными далеко-ul6trafioletov, близк-ul6trafioletov, или видимыми источниками, или лазером.

 
Web www.patentalert.com

< Wound golf ball having cast polyurethane cover

< Nanoparticles having oligonucleotides attached thereto and uses therefor

> Defect-free dielectric coatings and preparation thereof using polymeric nitrogenous porogens

> Amphiphile cyclodextrins, preparation and use thereof for solubilizing organized systems and incorporating hydrophobic molecules

~ 00141