A method for marking a semiconductor wafer 302 includes the steps of:
providing a reticle 300 including liquid crystal pixels; positioning the
semiconductor wafer in proximity to the reticle; directing radiation
through a first plurality of the pixels onto a first location on the
wafer; changing the relative positions of the semiconductor wafer and the
reticle; and directing radiation through a second plurality of the pixels
onto a second location on the wafer. The first plurality of pixels can be
used to form a first mark and the second plurality of pixels can be used
to form a second mark, wherein the second mark is different from the first
mark. The marks can be made of a pattern of dots in order to save space.
The pixels can be selected to form certain marks by using a computer 304
to turn on or off a transistor that may be associated with each pixel.
Also described is a system for marking a semiconductor wafer. The system
includes a wafer mount 301; a radiation source 306 in proximity to the
wafer mount; a reticle 300 which includes liquid crystal pixels and that
is positionable between the radiation source and the wafer mount; and a
mechanism 303 for changing the relative positions of the reticle and the
wafer mount. The radiation source can be non-coherent far-ultraviolet,
near-ultraviolet, or visible sources, or a laser.
Метод для маркировать вафлю полупроводника 302 вклюает шаги: обеспечивать перекрещение 300 включая жидкостные crystal пикселы; располагать вафлю полупроводника в близости к перекрещению; сразу радиация через первую множественность пикселов на первое положение на вафле; изменять относительные положения вафли полупроводника и перекрещения; и сразу радиация через вторую множественность пикселов на второе положение на вафле. Первую множественность пикселов можно использовать для того чтобы сформировать первую метку и вторую множественность пикселов можно использовать для того чтобы сформировать вторую метку, при котором вторая метка отличает первая метка. Метки можно сделать картины многоточий для того чтобы сохранить космос. Пикселы можно выбрать для того чтобы сформировать некоторые метки путем использование компьютера 304 повернуть дальше или с транзистора может быть связан с каждым пикселом. Также описана система для маркировать вафлю полупроводника. Система вклюает держатель 301 вафли; источник 306 радиации в близости к держателю вафли; перекрещение 300 вклюает жидкостные crystal пикселы и то positionable между источником радиации и держателем вафли; и механизм 303 для изменять относительные положения перекрещения и держателя вафли. Источником радиации может быть некогерентными далеко-ul6trafioletov, близк-ul6trafioletov, или видимыми источниками, или лазером.
