A method of producing a pattern-formed structure, comprising: preparing a
substrate for a pattern-formed structure having a
characteristic-modifiable layer whose characteristic at a surface thereof
can be modified by the action of photocatalyst; preparing a
photocatalyst-containing-layer side substrate having a
photocatalyst-containing layer formed on a base material, the
photocatalyst-containing layer containing photocatalyst, arranging the
substrate for a pattern-formed structure and the
photocatalyst-containing-Iayer side substrate such that the
characteristic-modifiable layer faces the photocatalyst-containing layer
with a clearance of no larger than 200 .mu.m therebetween; and irradiating
energy to the characteristic-modifiable layer from a predetermined
direction, and modifying characteristic of a surface of the
characteristic-modifiable layer, thereby forming a pattern at the
characteristic-modifiable layer.
Um método de produzir uma estrutura teste-dada forma, compreendendo: preparando uma carcaça para uma estrutura teste-dada forma que tem uma camada característico-modificável cuja a característica em uma superfície disso possa ser modificada pela ação do photocatalyst; preparando uma carcaça do lado da photocatalyst-cont-camada que tem uma camada photocatalyst-contendo dada forma em um material baixo, a camada photocatalyst-contendo que contem o photocatalyst, arranjando a carcaça para uma estrutura teste-dada forma e a carcaça lateral photocatalyst-contendo-Iayer tais que a camada característico-modificável enfrenta a camada photocatalyst-contendo com um afastamento de não maior o mu.m de 200 therebetween; e energia irradiating à camada característico-modificável de um sentido predeterminado, e de modificar característico de uma superfície da camada característico-modificável, dando forma desse modo a um teste padrão na camada característico-modificável.
