Provided herein is a method for cleaning a process chamber by employing
high power density light beam(s) to assist dissociating cleaning gaseous
species at the cleaning site. Also provided herein is a method for
cleaning the process chamber with laser ablation, wherein no cleaning gas
is necessary.
Υπό τον όρο ότι εν τω παρόντι είναι μια μέθοδος για μια αίθουσα διαδικασίας με τη χρησιμοποίηση της ελαφριάς ακτίνας πυκνότητας υψηλής ισχύος (σ) για να βοηθήσει το διαχωρισμό των αεριωδών ειδών καθαρισμού επί του καθαρίζοντας τόπου. Επίσης υπό τον όρο ότι εν τω παρόντι είναι μια μέθοδος για την αίθουσα διαδικασίας με την αφαήρεση λέιζερ, όπου κανένας καθαρισμός δεν είναι αέριο απαραίτητος.
