Tft matrix for optical sensor comprising a photosensitive semiconductor layer, and optical sensor comprising such an active matrix

   
   

The invention concerns an active TFT matrix for optical sensor comprising a substrate, a TFT transistor matrix formed on said substrate, a set of transistor control lines (3): a conductor level (4) according to a specific pattern forming an electrode array (5), each electrode (5) defining a zone called pixel: a set of columns (10) for load transfer between the electrodes (5) and an external electronics. The pixel electrode (5) is located entirely inside an outline delimited by two lines (3) and two successive columns (10), a protective gap (g1, g2) being provided between the inside edge of said outline and the periphery of the pixel (5) such that the pixel electrode (5) does not cover either the lines (3) or the columns (10).

Вымысел относится активно матрица TFT для оптически датчика состоя из субстрата, матрицы сформированной на сказанном субстрате, комплекта транзистора TFT линий управлением транзистора (3): уровень проводника (4) согласно специфически картине формируя блок электрода (5), каждый электрод (5) определяя зону вызвал пиксел: комплект колонок (10) для перехода нагрузки между электродами (5) и внешней электроникой. Электрод пиксела (5) устроен вс внутри плана размежеванного 2 линиями (3) и 2 последовательными колонками (10), защитным зазором (g1, g2) будучи обеспечиванным между внутренним краем сказанного плана и периферией пиксела (5) такие что электрод пиксела (5) не покрывает или линии (3) или колонки (10).

 
Web www.patentalert.com

< Plasma focus light source with improved pulse power system

< Halftone phase shifting photomask and blanks for halftone phase shifting photomask therefor and a method for forming pattern by using the halftone phase shifting photomask

> Imaging apparatus, imaging system, control method of imaging apparatus, and storage medium with timing control functionality

> Techniques for deriving tissue structure from multiple projection dual-energy x-ray absorptiometry

~ 00142