The present invention relates to an apparatus for creating a pattern on a
workpiece sensitive to radiation, such as a photomask, a display panel or
a microoptical device. The apparatus comprises a radiation source and a
spatial modulator (SLM) having a multitude of modulating elements
(pixels). It further comprises an electronic data processing and delivery
system feeding drive signals to the modulator, a precision mechanical
system for moving said workpiece and an electronic control system
coordinating the movement of the workpiece, the feeding of the signals to
the modulator and the intensity of the radiation, so that said pattern is
stitched together from the partial images created by the sequence of
partial patterns. According to the invention the drive signals can set a
modulating element to a number of states larger than two.
De onderhavige uitvinding heeft op een apparaat om een patroon op een werkstuk tot stand te brengen gevoelig voor straling, zoals een photomask, een vertoningspaneel of een micro-optisch apparaat betrekking. Het apparaat bestaat uit een stralingsbron en uit een ruimtemodulator die (SLM) een massa het moduleren van elementen (pixel) hebben. Het bestaat een elektronische gegevensverwerking en leveringssysteem het voeden verder aandrijvings uit signalen aan de modulator, een precisie mechanisch systeem om bovengenoemd werkstuk te bewegen en een elektronisch controlesysteem de beweging van het werkstuk, het voeden van de signalen aan de modulator coördineren en de intensiteit die van de straling, zodat het bovengenoemde patroon van de gedeeltelijke beelden die door de opeenvolging van gedeeltelijke patronen worden gecreeerd samen gestikt is. Volgens de uitvinding kunnen de aandrijvingssignalen een modulerend element aan een aantal staten plaatsen groter dan twee.