Photoresist supply apparatus capable of controlling flow length of photoresist and method of supplying photoresist using the same

   
   

A photoresist supply apparatus and a method of supplying photoresist using the same are provided. The photoresist supply apparatus includes a flow length measurer for measuring the flow length of photoresist remaining at the tip of a nozzle unit; a measured data processor for converting data measured by the flow length measurer into an electrical signal; and a valve controller for finely controlling the flow length of photoresist by controlling the amount of air flowing into an automatic on/off valve in response to the electrical signal fed back from the measured data processor. Accordingly, by measuring the flow length of photoresist at the tip of nozzle unit in real time and feeding back the measured flow length, a faulty process due to an irregular flow length of photoresist can be prevented, and a fixed amount of photoresist can be ejected.

Um instrumento da fonte do photoresist e um método de fornecer o photoresist que usam o mesmo são fornecidos. O instrumento da fonte do photoresist inclui um medidor do comprimento do fluxo para medir o comprimento do fluxo do photoresist restante na ponta de uma unidade do bocal; um processador de dados medido para dados convertendo-se mediu pelo medidor do comprimento do fluxo em um sinal elétrico; e um controlador de válvula para finamente controlar o comprimento do fluxo do photoresist controlando a quantidade de fluir de ar em uma válvula de ligar/desligar automática em resposta ao sinal elétrico foi realimentado do processador de dados medido. Conformemente, medindo o comprimento do fluxo do photoresist na ponta da unidade do bocal no tempo real e alimentando para trás o comprimento medido do fluxo, um processo defeituoso devido a um comprimento irregular do fluxo do photoresist pode ser impedido, e uma quantidade fixa de photoresist pode ser ejetada.

 
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