A method for forming a hybrid active electronic and optical circuit using a
lithography mask. The hybrid active electronic and optical circuit
comprising an active electronic device and at least one optical device on
a Silicon-On-Insulator (SOI) wafer. The SOI wafer including an insulator
layer and an upper silicon layer. The upper silicon layer including at
least one component of the active electronic device and at least one
component of the optical device. The method comprising projecting the
lithography mask onto the SOI waver in order to simultaneously pattern the
component of the active electronic device and the component of the optical
device on the SOI wafer.
Un metodo per formare un circuito elettronico ed ottico attivo ibrido usando una mascherina di litografia. Il circuito elettronico ed ottico attivo ibrido che contiene un dispositivo elettronico attivo ed almeno un dispositivo ottico su una cialda dell'Silicone-Su-Isolante (SOI). La cialda di SOI compreso uno strato dell'isolante e un silicone superiore fanno uno strato di. Lo strato superiore del silicone compreso almeno un componente del dispositivo elettronico attivo ed almeno un componente del dispositivo ottico. Il metodo che contiene proiettando la mascherina di litografia sul SOI esita per modellare simultaneamente il componente del dispositivo elettronico attivo ed il componente del dispositivo ottico sulla cialda di SOI.
