This invention provides an optical fiber block that includes an
optical-fiber-alignment portion and a stress-reduction-depth portion. In
the optical-fiber-alignment portion, a V groove array is arranged to
accommodate the non-coated fiber portion of a ribbon fiber. The V groove
array is formed by primary and secondary wet-etching processes on a
silicon wafer, and further includes first V grooves at both sides and
second V grooves different from the first V grooves disposed between the
first V grooves. Meanwhile, the stress-reduction-depth portion is formed
by another wet etching, extending to a predetermined depth from the
optical-fiber-alignment portion, for reducing stress caused by a variation
in the coating thickness of the optical fibers.
Esta invención proporciona un bloque de la fibra óptica que incluya una porción de la o'ptico-fibra-alineacio'n y una porción de la tensionar-reduccio'n-profundidad. En la porción de la o'ptico-fibra-alineacio'n, un arsenal del surco de V se arregla para acomodar la porción no-revestida de la fibra de una fibra de la cinta. El arsenal del surco de V es formado por procesos primarios y secundarios de la mojado-aguafuerte en una oblea de silicio, e incluye más lejos los primeros surcos de V en ambos lados y los segundos surcos de V diferentes de los primeros surcos de V dispuestos entre los primeros surcos de V. Mientras tanto, la porción de la tensionar-reduccio'n-profundidad es formada por otra aguafuerte mojada, extendiendo a una profundidad predeterminada de la porción de la o'ptico-fibra-alineacio'n, porque reduciendo la tensión causada por una variación en el grueso de capa de las fibras ópticas.
