A method for forming a suspended microstructure is provided. The method
includes providing a monocrystalline target substrate and subjecting the
surface of the monocrystalline target substrate to ion implantation to
form a microstructure layer at the surface of the monocrystalline target
substrate. An epitaxial material layer is formed overlying the
microstructure layer. A handle substrate is provided and a patterned
interposed material layer is provided between the epitaxial material layer
and the handle substrate. The epitaxial material layer, the patterned
interposed material layer and the handle substrate are affixed. The method
further includes thermally treating the monocrystalline target substrate
to effect separation between the microstructure layer and a remainder of
the monocrystalline target substrate.
Μια μέθοδος για μια ανασταλμένη μικροδομή παρέχεται. Η μέθοδος περιλαμβάνει την παροχή ενός monocrystalline υποστρώματος στόχων και την υποβολή της επιφάνειας του monocrystalline υποστρώματος στόχων στην ιονική εμφύτευση για να διαμορφώσει ένα στρώμα μικροδομής στην επιφάνεια του monocrystalline υποστρώματος στόχων. Ένα κρυσταλλικό υλικό στρώμα διαμορφώνεται επικαλύπτοντας το στρώμα μικροδομής. Ένα υπόστρωμα λαβών παρέχεται και ένα διαμορφωμένο υλικό στρώμα παρέχεται μεταξύ του κρυσταλλικού υλικού στρώματος και του υποστρώματος λαβών. Το κρυσταλλικό υλικό στρώμα, το διαμορφωμένο υλικό στρώμα και το υπόστρωμα λαβών επισυνάπτονται. Η μέθοδος περιλαμβάνει περαιτέρω θερμικά να μεταχειριστεί το monocrystalline υπόστρωμα στόχων στο χωρισμό επίδρασης μεταξύ του στρώματος μικροδομής και ενός υπολοίπου του monocrystalline υποστρώματος στόχων.
