A Saturable Reflector apparatus comprises a substrate having a first and
second surfaces, and a reflector having a saturable absorber layer,
attached to the first surface. At least one of the first and second
surfaces has been modified to enhance an etalon effect of the substrate
due to interference of light reflecting from the first and second
surfaces. Either or both of the surfaces may be modified, for example, by
polishing or coating. The apparatus may also include means for adjusting
an optical thickness of the substrate to tune the etalon effect. Such
means may comprise a temperature control element, such as a heater,
coupled to a temperature controller. The inventive apparatus may be
incorporated into a mode-locked laser. The etalon tuning optimizes a
relation between temporal and frequency domains of radiation incident on
the saturable reflector.
Saturable прибор рефлектора состоит из субстрата имея первые и вторые поверхности, и рефлектора имея saturable слой амортизатора, прикрепленный к первой поверхности. По крайней мере одна из первых и вторых поверхностей было доработано для того чтобы увеличить влияние etalon субстрата должного к взаимодействию света отражая от первых и вторых поверхностей. Та или обе из поверхностей могут быть доработаны, например, путем полировать или покрывать. Прибор может также включить середины для регулировать оптически толщину субстрата для того чтобы настроить влияние etalon. Такие середины могут состоять из элемента контроля температуры, such as подогреватель, соединенный к регулятору температуры. Изобретательный прибор может быть включен в режим-mode-locked лазер. Настраивать etalon оптимизирует отношение между доменами височных и частоты случая радиации на saturable рефлекторе.
