A chemical amplification type positive resist composition comprising a
novolak resin, a resin insoluble or poorly soluble itself in an alkali
aqueous solution but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the
action of an acid, and an acid generator, wherein when the novolak resin
is measured by gel permeation chromatography (GPC) using a 254 nm UV
detector using polystyrene as a standard, the area ratio of components
having molecular weights of 1000 or less is 25% or less based on the total
pattern area excepting unreacted monomers; and the chemical amplification
type positive resist composition can reduce cost without deteriorating
basic abilities such as sensitivity, resolution and the like, and shows
small unevenness due to standing wave, and can improved pattern profile,
particularly, line edge roughness.
Ένα χημικό θετικό τύπων ενίσχυσης αντιστέκεται στη σύνθεση περιλαμβάνοντας μια ρητίνη novolak, μια ρητίνη αδιάλυτες ή κακώς διαλυτές ο ίδιος σε ένα αλκαλικό διάλυμα ύδατος αλλά να γίνει διαλυτό σε ένα αλκαλικό διάλυμα ύδατος από τη δράση ενός οξέος, και μια όξινη γεννήτρια, όπου όταν μετριέται η ρητίνη novolak από τη χρωματογραφία διείσδυσης πηκτωμάτων (GPC) χρησιμοποιώντας έναν UV ανιχνευτή 254 NM χρησιμοποιώντας το πολυστυρόλιο ως πρότυπα, η αναλογία περιοχής των συστατικών που έχουν τα μοριακά βάρη 1000 ή λιγότερους είναι 25% ή λιγότερο βασισμένος στη συνολική περιοχή σχεδίων εξαιρέσει των unreacted μονομερών και το χημικό θετικό τύπων ενίσχυσης αντιστέκεται στη σύνθεση μπορεί να μειώσει το κόστος χωρίς επιδεινωμένος βασικές δυνατότητες όπως η ευαισθησία, η ανάλυση και οι όμοιοι, και παρουσιάζει μικρό unevenness λόγω στο μόνιμο κύμα, και μπορεί βελτιωμένος να διαμορφώσει το σχεδιάγραμμα, ιδιαίτερα, τραχύτητα ακρών γραμμών.
