The present invention generally relates to improved binary half tone
("BHT") photomasks and microscopic three-dimensional structures (e.g.,
MEMS, micro-optics, photonics, micro-structures and other
three-dimensional, microscopic devices) made from such BHT photomasks.
More particularly, the present invention provides a method for designing a
BHT photomask layout, transferring the layout to a BHT photomask and
fabricating three-dimensional microscopic structures using the BHT
photomask designed by the method of the present invention. In this regard,
the method of designing a BHT photomask layout comprises the steps of
generating at least two pixels, dividing each of the pixels into
sub-pixels having a variable length in a first axis and fixed length in a
second axis, and arraying the pixels to form a pattern for transmitting
light through the pixels so as to form a continuous tone, aerial light
image. The sub-pixels' area should be smaller than the minimum resolution
of an optical system of an exposure tool with which the binary half tone
photomask is intended to be used. By using this method, it is possible to
design a BHT photomask to have continuous gray levels such that the change
in light intensity between each gray level is both finite and linear. As a
result, when this BHT photomask is used to make a three-dimensional
microscopic structure, it is possible to produce a smoother and more
linear profile on the object being made.
La présente invention se relie généralement photomasks binaires améliorés d'image tramée (aux "BHT") et les structures tridimensionnelles microscopiques (par exemple, MEMS, le micro-systeme optique, le photonics, les microstructures et d'autres dispositifs tridimensionnels et microscopiques) faits à partir de tels photomasks de BHT. Plus en particulier, la présente invention fournit une méthode pour concevoir une disposition de photomask de BHT, transférer la disposition à un photomask de BHT et fabriquer les structures microscopiques tridimensionnelles en utilisant le photomask de BHT conçu par la méthode de la présente invention. À cet égard, la méthode de concevoir une disposition de photomask de BHT comporte les étapes de produire au moins de deux Pixel, divisant chacun des Pixel en secondaire-Pixel ayant une longueur variable à un premier axe et la longueur fixe à un deuxième axe, et rangeant les Pixel pour former un modèle pour la lumière de transmission par les Pixel afin de former une tonalité continue, image légère aérienne. Le secteur des secondaire-Pix devrait être plus petit que la résolution minimum d'un système optique d'un outil d'exposition avec lequel demi de photomask binaire de tonalité est prévu pour être employé. En employant cette méthode, il est possible de concevoir un photomask de BHT pour avoir les niveaux gris continus tels que le changement de l'intensité de la lumière entre chaque niveau gris est fini et linéaire. En conséquence, quand ce photomask de BHT est employé pour faire une structure microscopique tridimensionnelle, il est possible de produire un lissoir et un profil plus linéaire sur l'objet étant fait.
