A projection system projects a pattern formed on a mask onto a
photosensitive substrate. An illumination optical system forms an
illumination field at a position on the mask. A drive relatively moves the
mask and the photosensitive substrate with respect to the projection
system along a predetermined scanning exposure direction. A first
illumination adjustment mechanism adjusts an illumination characteristic
along the scanning exposure direction. A second illumination adjustment
mechanism adjusts an illumination characteristic in a direction crossing
the scanning exposure direction. A first telecentricity adjustment
mechanism applies an inclined component to telecentricity. A second
telecentricity adjustment mechanism adjusts the telecentricity relative to
the position of an optical axis.
Un sistema della proiezione proietta un modello formato su una mascherina su un substrato fotosensibile. Un sistema ottico di illuminazione forma un campo di illuminazione ad una posizione sulla mascherina. Un azionamento sposta relativamente la mascherina ed il substrato fotosensibile riguardo al sistema della proiezione lungo un senso d'esplorazione predeterminato di esposizione. Un primo meccanismo di registrazione di illuminazione registra un'illuminazione caratteristica lungo il senso di esposizione di esame. Un secondo meccanismo di registrazione di illuminazione registra un'illuminazione caratteristica in un senso che attraversa il senso di esposizione di esame. Un primo meccanismo di registrazione di telecentricity applica un componente propenso al telecentricity. Un secondo meccanismo di registrazione di telecentricity registra il telecentricity riguardante la posizione di un asse ottico.
