Stereolithographic patterning with variable size exposure areas

   
   

Methods for the preparation of multilayered resists are described. To efficiently pattern large contiguous areas rapidly, a procedure has been developed using spot-size modulation of the focused laser beam to more efficiently pattern interior portions. Critical portions at the perimeter are patterned at high resolutions. The spot-size is progressively increased towards the interior allowing a controlled transition to coarser spot-sizes without impacting the exposure dose in critical portions. Patterning times are significantly reduced since in effect shells are patterned. An algorithm is defined to subdivide a layer into different zones, determine the appropriate focused spot-sizes used for each zone, and define the laser scan trace within a zone to enable efficient patterning of broad areas in positive tone resists.

De methodes voor de voorbereiding van multilayered verzet tegenzich worden beschreven. Om grote aangrenzende gebieden efficiënt te vormen snel, is een procedure ontwikkeld gebruikend vlek-grootte modulatie van de geconcentreerde laserstraal om binnenlandse gedeelten efficiënter te vormen. De kritieke gedeelten bij de perimeter zijn gevormd bij hoge resoluties. De vlek-grootte wordt progressief verhoogd naar het binnenland dat een gecontroleerde overgang toestaat tot ruwere vlek-grootte zonder de blootstellingsdosis in kritieke gedeelten te beïnvloeden. Vormend tijden beduidend worden verminderd aangezien in feite shells gevormd zijn. Een algoritme wordt bepaald om een laag onder te verdelen in verschillende streken, de aangewezen geconcentreerde vlek-grootte te bepalen die voor elke streek wordt gebruikt, en het spoor van het laseraftasten te bepalen binnen een streek om het efficiënte vormen van brede gebieden in positieve toon toe te laten verzet tegenzich.

 
Web www.patentalert.com

< Electrophotographic photosensitive member, process-cartridge and apparatus

< X-ray inspection method and apparatus used for the same

> Image processing method, system and apparatus for noise reduction in an image sequence representing a threadlike structure

> Radiation detector and method of producing the same

~ 00151