A projection exposure apparatus includes a projection optical system for
projecting a transfer pattern of a first object onto a second object, a
first illumination system for performing illumination under a first
illumination condition, wherein the transfer pattern of the first object
illuminated under the first illumination condition is projected onto the
second object through the projection optical system, a second illumination
system for performing illumination under a second illumination condition,
a light intensity detector, and an information processing system operable,
as a particular pattern being illuminated by the second illumination
system under the second illumination condition is imaged by the projection
optical system, to measure a wavefront aberration of the projection
optical system on the basis of detection of a light intensity distribution
of an image of the particular pattern made through the light intensity
detector.
Een apparaat van de projectieblootstelling omvat een projectie optisch systeem om een overdrachtpatroon van een eerste voorwerp op een tweede voorwerp, een eerste verlichtingssysteem te ontwerpen om verlichting op een eerste verlichtingsvoorwaarde uit te voeren, waarin het overdrachtpatroon van het eerste voorwerp dat op de eerste verlichtingsvoorwaarde wordt verlicht op het tweede voorwerp door het projectie optische systeem wordt ontworpen, een tweede verlichtingssysteem om verlichting op een tweede verlichtingsvoorwaarde, een lichtintensiteitdetector uit te voeren, en een informatieverwerkingssysteem opereerbaar, als bepaald patroon dat door het tweede verlichtingssysteem op de tweede verlichtingsvoorwaarde door het projectie optische systeem, imaged is wordt verlicht om een golffrontaberratie van het projectie optische systeem te meten een lichtintensiteitdistributie van een beeld van het bijzondere patroon maakte door de lichtintensiteitdetector.
