The invention reduces the effects of stitching errors from re-scaling or
re-positioning in the fabrication of fiber Bragg gratings or the mask used
in such fabrication. A first embodiment of the invention preferably uses
characteristics of stitching errors to compensate for the stitching errors
themselves. By increasing the number of stitching errors, errors caused by
the stitching errors can be reduced. A second embodiment uses continuous
writing of the desired pattern, wherein the desired pattern is snapped to
a grid that can be written by the fabrication equipment. Using continuous
writing eliminates stitching errors in the resulting gratings.
L'invenzione riduce gli effetti della cucitura degli errori da re-re-scaling o di riposizionamento nel montaggio delle grate di Bragg della fibra o nella mascherina usata in tale montaggio. Un primo metodo di realizzazione dell'invenzione usa preferibilmente le caratteristiche degli errori di cucitura per compensare gli errori di cucitura essi stessi. Aumentando il numero di errori di cucitura, gli errori causati dagli errori di cucitura possono essere ridotti. Un secondo incorporamento usa la scrittura continua del modello voluto, in cui il modello voluto è schioccato ad una griglia che può essere scritta dall'apparecchiatura di montaggio. Usando la scrittura continua elimina gli errori di cucitura nelle grate risultanti.
