Failure light emission of an EL element due to failure film formation of an
organic EL material in an electrode hole 46 is improved. By forming the
organic EL material after embedding an insulator in an electrode hole 46
on a pixel electrode and forming a protective portion 41b, failure film
formation in the electrode hole 46 can be prevented. This can prevent
concentration of electric current due to a short circuit between a cathode
and an anode of the EL element, and can prevent failure light emission of
an EL layer.
L'emissione chiara di guasto di un elemento di EL dovuto formazione della pellicola di guasto di un materiale organico di EL in un foro 46 dell'elettrodo è migliorata. Formando il materiale organico di EL dopo l'incastonatura dell'isolante in un foro 46 dell'elettrodo su un elettrodo del pixel ed avere formato una parte protettiva 41b, la formazione della pellicola di guasto nel foro 46 dell'elettrodo può essere evitata. Ciò può impedire la concentrazione della corrente elettrica dovuto un cortocircuito fra un catodo e un anodo dell'elemento di EL e può impedire l'emissione chiara di guasto di uno strato di EL.
