A reflection type diffraction grating according to the present invention
has a structure in which a metal film as a first layer with reflectance
not lower than 30% with respect to the wavelength of incident light and a
transparent dielectric film as a second layer are laminated successively
on the surface of the reflection type diffraction grating. With respect to
the wavelength of incident light, the metal film has a refractive index
selected to be not higher than 1.5 and an extinction coefficient selected
to be not smaller than 6.0. The transparent dielectric film has a
refractive index selected to be in a range of from 1.30 to 1.46, both
inclusively, with respect to the wavelength of incident light and has an
optical film thickness selected to be in a range of from 0.20.lambda. to
0.38.lambda., both inclusively, when .lambda. is the wavelength of
incident light.
Un type de réflexion réseau de diffraction selon la présente invention a une structure en laquelle un film en métal comme première couche avec la réflectivité pas plus humblement que 30% en ce qui concerne la longueur d'onde de la lumière d'incident et un film diélectrique transparent comme deuxième couche sont stratifiés successivement sur la surface du type réseau de réflexion de diffraction. En ce qui concerne la longueur d'onde de la lumière d'incident, le film en métal a un indice de réfraction choisi pour être pas plus fortement que 1.5 et un coefficient d'extinction choisi pour être non plus petit que 6.0. Le film diélectrique transparent a un indice de réfraction choisi pour être dans une gamme de de 1.30 à de 1.46, de tous les deux inclusivement, en ce qui concerne la longueur d'onde de la lumière d'incident et a une épaisseur de film optique choisie pour être dans une gamme de de 0.20.lambda. à 0.38.lambda., tous les deux inclusivement, quand lambda. est la longueur d'onde de la lumière d'incident.
