System and method for controlling deposition parameters in producing a surface to tune the surface's plasmon resonance wavelength

   
   

A system and method are disclosed which enable deposition parameters to be controlled in producing a metal surface to tune the localized surface plasmon resonance (LSPR) wavelength of such metal surface to a desired wavelength. For example, the surface produced may be used as an enhancement surface within a surface-enhanced spectroscopy process, wherein such surface is produced having a LSPR wavelength that provides the maximum extinction of a particular excitation light. In one embodiment, a metal is deposited onto a substrate, while controlling one or more deposition parameters to tailor the LSPR of the resulting metal surface to a desired wavelength. In one embodiment, the substrate is smooth, and does not require a mask prearranged thereon for controlling the LSPR wavelength. Rather, deposition parameters, such as temperature of the substrate, deposition rate, and film thickness may be controlled to effectively tune the LSPR wavelength of the metal surface.

Se divulgan un sistema y un método que permiten a parámetros de la deposición ser controlados en producir una superficie del metal para templar la longitud de onda superficial localizada de la resonancia del plasmon (LSPR) de tal superficie del metal a una longitud de onda deseada. Por ejemplo, la superficie producida se puede utilizar como superficie del realce dentro de un proceso superficie-realzado de la espectroscopia, en donde se produce tal superficie teniendo una longitud de onda de LSPR que proporcione la extinción máxima de una luz particular de la excitación. En una encarnación, un metal se deposita sobre un substrato, mientras que controla unos o más parámetros de la deposición para adaptar el LSPR del metal que resulta emerge a una longitud de onda deseada. En una encarnación, el substrato es liso, y no requiere una máscara prearranged sobre eso para controlar la longitud de onda de LSPR. Algo, los parámetros de la deposición, tales como temperatura del substrato, de la tarifa de la deposición, y del espesor del film se pueden controlar para templar con eficacia la longitud de onda de LSPR de la superficie del metal.

 
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