The present invention provides a gas discharge ultraviolet laser capable of
producing a high quality pulsed ultraviolet laser beam at pulse rates
greater than 2000 Hz at pulse energies at 5 mJ or greater and having an
enclosed beam path at least a portion of which comprises an oxidation
agent. In a preferred embodiment a portion of the beam path comprises a
sealed chamber containing a gas comprising a small concentration of
oxygen. In one preferred embodiment the sealed chamber is an etalon
chamber and the contained gas is nitrogen with an oxygen concentration of
between 1.6 and 2.4 percent. In another preferred embodiments a small
concentration of oxygen is added to the purge gas of a special purge
compartment containing optical components exposed to high intensity output
laser beam.
De onderhavige uitvinding verstrekt een ultraviolette van de gaslossing laser geschikt om een gepulseerde ultraviolette laserstraal van uitstekende kwaliteit te produceren aan polsslag groter dan 2000 Herz bij impulsenergieën bij 5 mJ of groter en een ingesloten straalweg te hebben minstens een gedeelte waarvan uit een oxydatieagent bestaat. In een aangewezen belichaming bestaat een gedeelte van de straalweg uit een verzegelde kamer die een gas bevat bestaand uit een kleine concentratie van zuurstof. In één aangewezen belichaming is de verzegelde kamer een etalonkamer en het bevatte gas is stikstof met een zuurstofconcentratie van tussen 1,6 en 2,4 percenten. In een andere wordt de aangewezen belichamingen een kleine concentratie van zuurstof aan het zuiveringsgas van een speciaal zuiveringscompartiment toegevoegd dat optische componenten bevat die aan de laserstraal van de hoge intensiteitsoutput worden blootgesteld.
