A method of determining a relative position of first and second imaging
devices includes setting an image of a group of mutually different
reference patterns and a basic pattern on an imaging medium, with the
second imaging device. Each reference pattern of the group is assigned
uniquely to one relative position. An image of at least one test pattern
is set over the basic pattern by the first imaging device, for forming a
combination pattern. A reference pattern having an area coverage
coinciding with an area coverage of the combination pattern is identified
from the group of reference patterns. A relative position associated with
the identified reference pattern of the group of reference patterns is
then identified. A printing form exposer, a printing unit, a printing unit
group and a printing press for performing the method are also provided.
Eine Methode der Bestimmung einer relativen Position von zuerst und der zweiten Belichtung Vorrichtungen schließt die Einstellung eines Bildes einer Gruppe der gegenseitig unterschiedlichen Bezugsmuster und des grundlegenden Musters auf einem Belichtung Mittel, mit der zweiten Belichtung Vorrichtung ein. Jedes Bezugsmuster der Gruppe wird einzigartig einer relativen Position zugewiesen. Ein Bild von mindestens einem Testmuster wird über das grundlegende Muster durch die erste Belichtung Vorrichtung, für die Formung eines Kombination Musters eingestellt. Ein Bezugsmuster, das eine Bereich Deckung hat, mit einer Bereich Deckung des Kombination Musters übereinzustimmen, wird von der Gruppe der Bezugsmuster gekennzeichnet. Eine relative Position verband mit dem gekennzeichneten Bezugsmuster der Gruppe der Bezugsmuster wird gekennzeichnet dann. Ein druckenform exposer, eine Druckmaßeinheit, eine Druckmaßeinheit Gruppe und eine Druckpresse für das Durchführen der Methode werden auch zur Verfügung gestellt.
