A lithographic projection apparatus for EUV lithography includes a foil
trap. The foil trap forms an open structure after the EUV source to let
the EUV radiation pass unhindered. The foil trap is configured to be
rotatable around an optical axis. By rotating the foil trap, an impulse
transverse to the direction of propagation of the EUV radiation can be
transferred on debris present in the EUV beam. This debris will not pass
the foil trap. In this way, the amount of debris on the optical components
downstream of the foil trap is reduced.
Um instrumento lithographic da projeção para o lithography de EUV inclui uma armadilha da folha. A armadilha da folha dá forma a uma estrutura aberta depois que a fonte de EUV deixou a passagem da radiação de EUV unhindered. A armadilha da folha é configurarada para ser rotatable em torno de uma linha central ótica. Girando a armadilha da folha, um impulso transversal ao sentido da propagação da radiação de EUV pode ser transferido nos restos atuais no feixe de EUV. Estes restos não passarão a armadilha da folha. Nesta maneira, a quantidade de restos nos componentes óticos rio abaixo da armadilha da folha é reduzida.
