Method and apparatus for producing hydrogen fluoride

   
   

As to a reactor which is used in a process for producing hydrogen fluoride through a reaction of fluorite with sulfuric acid, and which comprises means for applying a shearing force to a content therein between the means and an inner surface thereof, a metal material is used for at least a portion of a part of the means which part is opposed to the inner surface, the metal material comprising tungsten carbide and a material comprising at least one element, or an alloy comprising two or more elements, selected from the group consisting of nickel, chromium, cobalt, iron, tungsten and carbon, the metal material comprising 30 to 90% by weight of tungsten carbide. Thereby, it becomes possible to reduce the wear of an edge of the means for applying the shearing force to the content (the reaction mixture) between the means and the inner surface.

Hinsichtlich eines Reaktors, der in einem Prozeß für das Produzieren des Wasserstofffluorids durch eine Reaktion von Fluorite mit Schwefelsäure benutzt wird und der Mittel für eine Scherkraft an einem Inhalt zwischen die Mittel und eine innere Oberfläche davon enthält, wird ein Metallmaterial für mindestens einen Teil eines Teils der Mittel, denen der Teil der inneren Oberfläche, dem Metallmateriellen enthaltenen Hartmetall und einem Material darin aufwenden, die mindestens ein Element enthalten entgegengesetzt wird, oder der Legierung, die zwei oder mehr Elemente enthält, vorgewählt von der Gruppe benutzt, die aus Nickel, Chrom, Kobalt, Eisen, Wolfram und Carbon, das Metallmaterial besteht, das enthält 30 bis 90% durch Gewicht des Hartmetalls. Dadurch wird es möglich, die Abnutzung eines Randes der Mittel für das Aufwenden der Scherkraft am Inhalt (das Reaktionsgemisch) zwischen den Mitteln und der inneren Oberfläche zu verringern.

 
Web www.patentalert.com

< Method and device for temperature reduction of exhaust gas by making use of thermal water

< Methods of chemically derivatizing single-wall carbon nanotubes

> System for in-situ generation of fluorine radicals and/or fluorine-containing interhalogen (XFn) compounds for use in cleaning semiconductor processing chambers

> Bulk synthesis of long nanotubes of transition metal chalcogenides

~ 00154