Onium salts and positive resist materials using the same

   
   

Disclosed are novel onium salts represented by general formula (R).sub.3 S.sup.+ M, wherein three R's may be the same or different, each being an aryl group, provided that at least one of R's is a t-alkoxy substituted phenyl group, and M is an anion capable of forming the sulfonium salts; and high energy radiation-responsive positive resist materials using said novel onium salts as acid generator.

Sono rilevati i sali di onium del romanzo rappresentati dalla formula generale (R).sub.3 S.sup.+ m., in cui tre r possono essere le stesse o differenti, ciascuno che è un gruppo arilico, a condizione che almeno una delle r è un gruppo fenile sostituito t-alcossi e la m. è un anione capace di formare i sali di sulfonium; ed il positive radiazione-sensible a reagire di alta energia resiste ai materiali usando i sali detti di onium del romanzo come generatore acido.

 
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