The invention is a developer system for developing a PMMA photoresist
having exposed patterns comprising features having both very small sizes,
and very high aspect ratios. The developer system of the present invention
comprises a developer tank, an intermediate rinse tank and a final rinse
tank, each tank having a source of high frequency sonic agitation,
temperature control, and continuous filtration. It has been found that by
moving a patterned wafer, through a specific sequence of developer/rinse
solutions, where an intermediate rinse solution completes development of
those portions of the exposed resist left undeveloped after the
development solution, by agitating the solutions with a source of high
frequency sonic vibration, and by adjusting and closely controlling the
temperatures and continuously filtering and recirculating these solutions,
it is possible to maintain the kinetic dissolution of the exposed PMMA
polymer as the rate limiting step.
Вымыслом будет система проявителя для начинать фоторезист PMMA подвергая действию картины состоя из характеристик имея оба очень малых размера, и очень высоких коэффициенты сжатия. Система проявителя присытствыющего вымысла состоит из бака проявителя, промежуточного бака rinse и окончательного бака rinse, каждого бака имея источник высокочастотного звукового взволнования, контроля температуры, и непрерывной фильтрации. Было найдено что путем двигать сделанную по образцу вафлю, через специфически последовательность разрешений developer/rinse, где промежуточное разрешение rinse выполняет развитие тех частей подвергли действию, котор сопротивляйте налево непроявленному после разрешения развития, путем агитировать разрешения с источником высокочастотной звуковой вибрации, и путем регулировать и близко контролировать температуры и непрерывно фильтровать и рециркулировать эти разрешения, оно по возможности поддерживать кинетическое растворение, котор подвергли действию полимера PMMA как тариф ограничивая шаг.
