In a substrate processing apparatus, a substrate processing chamber has a
substrate support to support a substrate, a gas delivery system to provide
an energized cleaning gas to the chamber to clean process residues formed
on surfaces in the chamber during processing of the substrate, and an
exhaust to exhaust the cleaning gas. A detector monitors a
chemiluminescent radiation emitted from about a surface during cleaning of
the process residues by the energized cleaning gas and generates a signal
in relation to the monitored chemiluminescent radiation. A controller
receives the signal and evaluates the signal to determine an endpoint of
the cleaning process.
Dans un substrat traitant l'appareil, un substrat traitant la chambre a un appui de substrat pour soutenir un substrat, un système de la livraison de gaz pour fournir un gaz de nettoyage activé à la chambre pour nettoyer les résidus de processus formés sur des surfaces dans la chambre pendant le traitement du substrat, et un échappement pour épuiser le gaz de nettoyage. Un détecteur surveille un rayonnement chimioluminescent émis environ d'une surface pendant le nettoyage des résidus de processus par le gaz de nettoyage activé et produit d'un signal par rapport au rayonnement chimioluminescent surveillé. Un contrôleur reçoit le signal et évalue le signal pour déterminer un point final du processus de nettoyage.
