The present invention provides a gas heating apparatus that activates
reaction gases for a chemical vapor deposition. The gas heating apparatus
includes a chamber becoming enclosures of the gas heating apparatus; a
heat insulating material 20 formed on an inner surface of the chamber so
as to thermally insulate the inside of the chamber from the outside; a
quartz tube having a gas inflow pipe, a gas outflow pipe, enlarged-pipe
portions and abridged-pipe portion, wherein the enlarged-pipe portions and
the abridged-pipe portions are alternately repeated and constitute a
zigzag shape in an up-and-down direction in the chamber; a plurality of
ceramic balls located inside the enlarged-pipe portions of the quartz
tube; and a heater having a shape of coil spring and surrounding the
zigzag shape of the quartz tube in the chamber.
La présente invention fournit un appareillage de chauffage de gaz qui active des gaz de réaction pour une déposition en phase vapeur. L'appareillage de chauffage de gaz inclut des clôtures devenantes d'une chambre de l'appareillage de chauffage de gaz ; un matériel thermoisolant 20 a formé sur une surface intérieure de la chambre afin d'isoler thermiquement l'intérieur de la chambre de l'extérieur ; un tube de quartz ayant une pipe d'apport de gaz, une pipe de sortie de gaz, les parties d'agrandir-pipe et la partie d'abréger-pipe, où les parties d'agrandir-pipe et les parties d'abréger-pipe sont alternativement répétées et constituent une forme de zigzag dans une direction de haut en bas dans la chambre ; une pluralité de boules en céramique situées à l'intérieur des parties d'agrandir-pipe du tube de quartz ; et un réchauffeur ayant une forme de ressort hélicoïdal et entourant la forme de zigzag du tube de quartz dans la chambre.
