A method for the duplication of microscopic patterns from a master to a
substrate is disclosed, in which a replica of a topographic structure on a
master is formed and transferred when needed onto a receiving substrate
using one of a variety of printing or imprint techniques, and then
dissolved. Additional processing steps can also be carried out using the
replica before transfer, including the formation of nanostructures,
microdevices, or portions thereof. These structures are then also
transferred onto the substrate when the replica is transferred, and remain
on the substrate when the replica is dissolved. This is a technique that
can be applied as a complementary process or a replacement for various
lithographic processing steps in the fabrication of integrated circuits
and other microdevices.
Un metodo per la duplicazione dei modelli microscopici da un padrone ad un substrato è rilevato, in cui una replica di una struttura topografica su un padrone è formata e trasferita quando avuto bisogno di su un substrato di ricezione usando uno di una varietà di tecniche della stampa o di stampa ed allora è dissolto. Le fasi di lavorazione supplementari possono anche essere effettuate usando la replica prima del trasferimento, compreso la formazione dei nanostructures, dei microdevices, o delle parti di ciò. Queste strutture allora inoltre sono trasferite sul substrato quando la replica è trasferita e rimangono sul substrato quando la replica è dissolta. Ciò è una tecnica che può essere applicata come un processo complementare o rimontaggio per varie fasi di lavorazione litografiche nel montaggio dei circuiti integrati e di altri microdevices.
