The invention provides a lithographic method referred to as "dip pen"
nanolithography (DPN). DPN utilizes a scanning probe microscope (SPM) tip
(e.g., an atomic force microscope (AFM) tip) as a "pen," a solid-state
substrate (e.g., gold) as "paper," and molecules with a chemical affinity
for the solid-state substrate as "ink." Capillary transport of molecules
from the SPM tip to the solid substrate is used in DPN to directly write
patterns consisting of a relatively small collection of molecules in
submicrometer dimensions, making DPN useful in the fabrication of a
variety of microscale and nanoscale devices. The invention also provides
substrates patterned by DPN, including submicrometer combinatorial arrays,
and kits, devices and software for performing DPN. The invention further
provides a method of performing AFM imaging in air. The method comprises
coating an AFM tip with a hydrophobic compound, the hydrophobic compound
being selected so that AFM imaging performed using the coated AFM tip is
improved compared to AFM imaging performed using an uncoated AFM tip.
Finally, the invention provides AFM tips coated with the hydrophobic
compounds.
L'invenzione fornisce un metodo litografico citato come "nanolithography della penna del tuffo" (DPN). DPN utilizza una punta del microscopio della sonda di esame (SPM) (per esempio, una punta atomica del microscopio della forza (AFM)) come "penna," un substrato di solid-dichiarare (per esempio, oro) come "la carta," e molecole con un'affinità chimica per il substrato di solid-dichiarare come "inchiostro." Il trasporto capillare delle molecole dalla punta di SPM al substrato solido è usato in DPN direttamente per scrivere i modelli che consistono di collezione di molecole relativamente piccola nelle dimensioni di submicrometer, rendente DPN utile nel montaggio di una varietà di dispositivi del nanoscale e di microscala. L'invenzione inoltre fornisce i substrati modellati da DPN, compresi gli allineamenti combinatori di submicrometer e corredi, dispositivi e software per DPN d'effettuazione. L'invenzione ulteriore fornisce un metodo di effettuazione della formazione immagine del AFM in aria. Il metodo contiene ricoprire una punta del AFM di residuo idrofobo, il compound idrofobo che è selezionato in modo che la formazione immagine del AFM abbia effettuato usando la punta rivestita del AFM sia migliorata abbia confrontato al AFM la formazione immagine effettuata usando una punta non rivestita del AFM. Per concludere, l'invenzione fornisce le punte del AFM ricoperte di residui idrofobi.
