A photosensitive polymer including silicon and a resist composition using
the same are disclosed. The photosensitive polymer has the following
formula 1.
##STR1##
In formula 1, R.sub.1 of the first monomer and R.sub.3 of the third monomer
are an alkyl group. R.sub.2 of the first monomer is hydrogen, alkyl,
alkoxy, or carbonyl. The X of the first monomer is an integer selected
from 1 to 4. Further, m/(m+n+p) is about 0.1 to about 0.4, n/(m+n+p) is
about 0.1 to about 0.5, and p/(m+n+p) is about 0.1 to about 0.4.
Um polímero photosensitive including o silicone e uma composição resistir que usa o mesmo são divulgados. O polímero photosensitive tem a seguinte fórmula 1. ## do ## STR1 Na fórmula 1, R.sub.1 do primeiro monomer e R.sub.3 do terceiro monomer são um grupo alkyl. R.sub.2 do primeiro monomer é hidrogênio, alkyl, alkoxy, ou carbonyl. O X do primeiro monomer é um inteiro selecionado de 1 a 4. Mais mais, m/(m+n+p) são aproximadamente 0.1 a aproximadamente 0.4, n/(m+n+p) são aproximadamente 0.1 a aproximadamente 0.5, e p/(m+n+p) são aproximadamente 0.1 a aproximadamente 0.4.
