The present invention includes polymers and photoresist compositions that
comprise the polymers as a resin binder component. Photoresists of the
invention include chemically-amplified positive-acting resists that can be
effectively imaged at short wavelengths such as sub-200 nm, particularly
193 nm. Polymers of the invention suitably contain 1) photoacid labile
groups that preferably contain an alicyclic moiety; 2) a polymerized
electron-deficient monomer; 3) a polymerized cyclic olefin moiety.
Particularly preferred polymers of the invention are tetrapolymers or
pentapolymers, preferably with differing polymerized norbornene units.
Присытствыющий вымысел вклюает полимеры и составы фоторезиста состоят из полимеров как компонент связывателя смолаы. Фоторезисты вымысла вклюают химически-usilenny1 положительн-de1stvovat6 сопротивляют может быть эффективно imaged на скоро длинах волны such as sub-200 nm, определенно 193 nm. Полимеры вымысла целесообразно содержат 1) группы photoacid лабильные предпочтительн содержат алициклический moiety; 2) полимеризованный электрон-nedostatocny1 мономер; 3) полимеризованный moiety циклового олефина. Определенно предпочитаемые полимеры вымысла будут tetrapolymers или pentapolymers, предпочтительн с отличая полимеризованными блоками norbornene.
